用未燃烧的石油焦制成的石墨制品-伟名石墨

用未燃烧的石油焦制成的石墨制品，是二种机械强度很高的细粒结构材料，可用于制作电子技术制品，如排期、薄板、因盘、真空炉和高频电炉的加热器、巡热被、解泰她签属的石墨皿、高温实验装置的把持器（夹头）、热压压模和过滤器等。此种材料可用于懂性气氛或保护性气氛中在2500℃以下的温度中工作；在真空(10-~10mmHgo，中于2000℃以下可以工作很久。MIT-8石墨的性能列于表2-2，此种材料可制成异型制品。

高纯石墨系用于制作半导体技术设备的各种元件，它是以普通的结构石墨在石墨化过程中用活性气体净化而成的。已净化的石墨须在防止制品污染的条件下进行机械加工。这种石墨（净化后）的灰分不超过1×10%，铁、铝、镁的含量不应超过3×105%，铜、硼、锰的含量不应超过1×10%。上面这些限定杂质含量都符合纯净级。在这些石墨里，硅钙的含量不大于3×10*(质量%），高纯与超高纯石墨杂质含量见表2-3。工业上还有纯度更高的结构石墨。用这种石墨制成的制品经过机械加工之后再进行补充净化，以减少其表面沾染的几率。限定杂质——铁、铝、镁、硼、铜、锰的含量不许超过1×10%，硅的含量不许超过3×10-%，钛、镍、铬及其他元素的含量应少于1x10%。这些石墨的灰分在0~10*%。各种牌号特纯石墨的物理力学性能。

注：TM石墨的热处理温度为2700℃，其他各种牌号石墨的热处理温度为2800~3000℃。有保护层的特纯高强石墨是由普通细结构石墨经过净化并在真空中脱气，然后用热解炭进行表面增密处理而成的。其制品（加热器、圆盘、石墨皿等)可用于以气体外延生长法制取硅薄膜。制品内杂质含量：铁不超过5×10*%，铝不超过2×10%，镁和铜不超过5x105%，钛不超过1×10*%，镍和钻不超过1×10-%。

热解炭形成的增密保护层的厚度不大于2mm。也可在经过增密处理的石墨制品的表面，还可以沉积厚度不超过0.1mm的热解石墨薄层。石墨制品经热解炭增密处理之后，其透气性和气

体析出量（气体解吸率）显著降低。

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